無掩模光刻技術研究
蔣文波 胡松 中國科學院光電技術研究所 成都610209 中國科學院研究生院 北京100039
關鍵詞：無掩模光刻 掃描電子束光刻 波帶片陣列光刻 掩模版
摘要：介紹了無掩模光刻技術的現狀和存在的問題，并對幾種常見的無掩模光刻技術進行了詳細的對比分析。研究表明，掃描電子柬光刻具有極高的分辨率，但是生產效率較低；波帶片陣列光刻技術已經在理論和實驗上取得了廣泛的成果，在保持無掩模光刻技術高分辨力的同時，對電子束的低效率將是一種補充，是一種很有潛力的用于制作掩模版的光刻技術。
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