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相控陣雙全法改善缺陷表征
關(guān)鍵詞：缺陷表征 成像質(zhì)量改善
摘要：與常規(guī)技術(shù)相比,相控陣超聲檢測(cè)(PAUT)優(yōu)勢(shì)凸現(xiàn):速度快,可靠性好,靈敏度高,分辨力優(yōu)。應(yīng)對(duì)復(fù)雜檢測(cè),PAUT總是首選技術(shù)。隨著計(jì)算功效強(qiáng)化,新一代超聲設(shè)備管控大數(shù)據(jù)能力優(yōu)化,"雙全"法-全矩陣捕獲(FMC)和全聚焦法(TFM)等先進(jìn)成像技術(shù),應(yīng)運(yùn)而生。結(jié)合標(biāo)準(zhǔn)許可的方法使用,這些技術(shù)可使缺陷表征大為改善。本文即論證相控陣檢測(cè)與先進(jìn)成像法相結(jié)合,如何為UT日常應(yīng)用,強(qiáng)化缺陷表征過(guò)程。
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