As(Ⅴ)離子印跡有機-無機雜化材料的制備及其對As(Ⅴ)的選擇性吸附
裴志洋; 黃澤義; 孟卓; 尤楠 遼寧石油化工大學化學化工和環(huán)境學部; 撫順113001
關鍵詞：印跡 砷 水熱輔助 吸附模型 動力學
摘要：采用水熱輔助表面印跡技術,制備了氨基功能化As(V)離子印跡有機-無機雜化材料,利用紅外光譜和掃描電鏡表征了其形貌和表面官能團,采用平衡吸附法研究了印跡雜化材料對As(V)的吸附行為及機理,計算了等溫吸附模型和吸附動力學的參數。結果表明,水熱輔助表面印跡法可以顯著提高印跡雜化材料的吸附容量,在20℃時,吸附量達到47. 5mg/g,吸附平衡時間為30min;在pH 4~9范圍內,pH對吸附容量沒有顯著性影響;離子印跡雜化材料顯示出優(yōu)異的選擇性,其再生5次后,As(V)的吸附容量沒有大幅降低;As(V)離子在離子印跡雜化材料的吸附過程符合Langmuir和準二級動力學模型。
化學通報雜志要求:
{1}參考文獻限作者親自閱讀已發(fā)表的近五年主要文獻。按文內引用先后順序列于文末，并在文內引用處右上角以[ ]號（角注）注明序號。
{2}收到稿件后會盡快回復，一個月內不得將為本刊撰寫的稿件投給其他媒體，來稿一律不退，請作者自留底稿。
{3}本刊編輯部有權對來稿進行修改，不同意改動者請事先說明。
{4}獲得科研基金資助的文章須注明基金項目名稱及項目編號。
{5}作圖數據必須附于圖后。圖片必須反差鮮明，清晰易辨。顯微照片內應畫長度標尺，如1 μm。圖片像素應盡量較高，附于相應文字下方，并標明圖號、圖題和圖注，注意圖片的上下方位。
注：因版權方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社
