基于超精密激光直寫(xiě)系統(tǒng)制作二維光柵
關(guān)鍵詞：光柵 超精密系統(tǒng) 激光直寫(xiě) 柵距測(cè)量
摘要：二維光柵是光刻機(jī)光柵尺系統(tǒng)的核心元件。搭建了超精密激光直寫(xiě)系統(tǒng),基于二維超精密工件臺(tái),通過(guò)旋轉(zhuǎn)基片90°進(jìn)行兩次曝光,制作出柵線密度為1200 line/mm的二維光柵掩模。原子力顯微鏡和掃描電鏡結(jié)果表明,所制作的掩模輪廓清晰,空間分布均勻。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明了超精密激光直寫(xiě)系統(tǒng)能夠制作出二維光柵掩模,在制作大尺寸、高精度二維計(jì)量光柵方面有著廣闊的應(yīng)用前景。
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